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FIB聚焦离子束应用


芯片设计IC 微线路修改 集成电路设计

芯片设计IC 测试键生长 集成电路设计

芯片设计IC Cross-Section 集成电路设计

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芯片分析实验室 ??FIB性能参数

  • 型号:FEI DualBeam 820. ?FIB/SEM(离子束/电子束)双束机台

  • 大陆地区第一台投入商业服务的Dual-Beam双束机台

  • 最精准分辨率高达7nm

  • 可同时提供FIB聚焦离子束切割修改与SEM电子束影像观察

  • 微线路切割,卤素气体辅助蚀刻

  • 纵向切割 Cross-Section

  • 深层微沉积,沉积金属物为白金/钨

  • VC (Voltage Contrast) 电位对比测试,判断连接线(metal, poly, contact, via)之open/ short

  • 微线路修改最高制程可达0.13um

  • 支持8英寸wafer
    FIB 主要应用范围
    微线路修改(Microcircuit Modification)
    可直接对金属线做切断、连接或跳线处理. 相对于再次流片验证, 先用FIB工具来验证线路设计的修改, 在时效和成本上具有非常明显的优势.
    测试键生长(Test Pad/Probing Pad Building)
    在复杂线路中任意位置镀出测试键, 工程师可进一步使用探针台(Probe station) 或 E-beam 直接观测IC内部信号.
    纵向解剖 Cross-section
    SEM扫描电镜/TEM透射电镜的样片制备.
    VC电势对比测试(Voltage Contrast)


    利用不同电势金属受离子束/电子束照射后二次电子产量不同致使其影像形成对比的原理,判断metal, poly, contact, via之open/short


    FIB 原 理

    静电透镜聚焦的高能量镓离子, 经高压电场加速后撞击试片表面, 在特定气体协作下产生图像并移除或沉淀(连接)

    物质, 其解析度为亚微米级别. 离子束实体喷溅加以卤素气体协作, 可完成移除表面物质 (纵向解剖/开挖护层、切

    断金属线), 离子束喷溅与有机气体协作则可完成导体沉积 (金属线连接、测试键生长).

fib

fib

 

 

 
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.(2011年11月5日)................................................................................